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射频离子源(IBD-R.I.S.E)

产品简

博顿全自主研发的新型高端离子源系统,采用独特设计与具有专利技术的射频中和器,完全摆脱传统的热阴极原理,可无耗材工作,连续工作时间能达到 1000 小时以上,利用多层立体栅网确保精准的离子束方向性,支持离子束流和能量分别独立控制,对工作气体环境无要求,适用于离子束溅射镀膜、刻蚀与超高精度表面处理,可应用于高端光学、光通信、导航制导、高端科研等多行业领域,可完全替代国外产品,填补国内空白打破国外垄断。
中和原理
离子源是离子束流的发生装置,离子束是目前特种微纳加工中最精密、最微细的加工手段:
· 离子束镀膜具有致密度高、粘附力好、无污染等优点;
· 离子束刻蚀线条精度可达纳米精度;
· 离子束抛光被誉为终极抛光,抛光精度可达亚纳米级。
--产品特点--
1.全自主研发、拥有专利技术、可完全替代国外产品,产品性能优异:

2.具有国内唯一的、具有专利技术的无灯丝RF 中和器,其维护工作少,支持长时间运行;

3.连续工作时间长:传统灯丝型离子源工作5小时 VS射频离子源1000h以上;

4.离子束操作范围灵活可调:离子束流和离子能量分别独立控制,可支持的操作条件范围广泛,离子束能量50 到 1500eV,离子束流最高可达1000mA;

5. 离子束方向性好:多层立体栅网设计,确保离子束的方向性,提供了非常高的准直性;

6.工作环境适应性强:对工作气体无要求、可灵活适应氩气(所有惰性气体)、氧气、 氮气或者其他活泼气体工作环境,在惰性和氧化环境中均能实现可靠一致的操作;

7. 反应性气体工艺辅助效果明显:为反应性工艺(例如高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积)提供宽而均匀的离子束源;

8. 独特的立体式水冷却,适用于低功率到高功率运行;

9.稳定高效的等离子体操作具有精确控制能力并允许高重复性;

10. 非常适合于负载锁定生产工艺;
--应用性能指标--

光学镀膜应用

光学镀膜应用

超高透射簿膜:>99.99%透过率

耐击穿强度效果

超低损耗薄膜:反射率 >99.999%

--应用领域--
广泛应用于离子束溅射镀膜、刻蚀与超高精度表面处理,产品可应用于高端光学、光通信、导航制导、高端科研等多行业领域,同时支持根据特定工艺进行定制化设计。