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中空阴极霍尔离子源(IBD-H.I.T)

   产品简

一种全自主研发的新型高端离子源,使用具有专利技术的中空阴极结构与耗材,突破了传统灯丝霍尔离子源只能工作5小时的限制,连续工作时间大大提升到100小时以上,可广泛应用于面向高端光学镜头与镜片膜、装饰膜等产品的蒸发镀膜辅助沉积,发热小、适应多种气体环境、无污染,可极大提升膜层的稳定性、附着力、致密度。

离子源是离子束流的发生装置,离子束是目前特种微纳加工中最精密、最微细的加工手段:

· 离子束镀膜具有致密度高、粘附力好、无污染等优点;
· 离子束刻蚀线条精度可达纳米精度;
· 离子束抛光被誉为终极抛光,抛光精度可达亚纳米级。

--技机械结构示意图--

--产品特点--
连续工作时间长:传统灯丝型离子源工作5小时 VS 中空阴极霍尔源100h以上;

功率大:基本配置即可达300V/15A,远远高于传统离子源(200V/10A Max);

工作环境适应性强:单台可覆盖1.1米直径真空腔室、对工作气体无要求、可灵活适应氧气及多种惰性气体环境;

发热低:长时间工作发热低于70度,优于传统200度左右的温升;

产品污染少:不同于灯丝型阴极对产品膜层造成污染;

改进了对薄膜应力和化学计量的控制,立体式水冷设计;

创新型结构设计和灵活整合,使节省空间与广泛的射束角度成为可能;

维护便利, 性价比高,适合传统工业生产工艺升级;
--应用领域--
可广泛适合于需要高电流、低能量离子的表面预清洁和辅助沉积等应用领域, 适用于直径介于 70-130 厘米的加工室中的真空镀膜制程,同时支持根据特定工艺进行定制化设计。
· 广泛面向高端光学镜头与镜片膜、装饰膜等产品的蒸发镀膜辅助沉积应用
· 非常适合于精密或工业光学镀膜环境
--应用性能指标--

气工作时的属性曲线

氧气工作时的属性曲线

离子束密度图(距离半径 30cm,氩气,阳极电流 7.5A)

离子束密度图(距离半径 30cm,氩气,阳极电流 7.5A)
--定制化产品设计--

可根据客户镀膜设备及所需镀膜工艺要求进行定制化设计

条形中空阴极霍尔离子源示意图